企业简介
七星华创成立于2001年9月，注册资本7642万元，坐落于中关村高科技产业开发区的“电子城科技园”，是一家以微电子技术为核心，以电子专用设备与新型电子元器件为主营业务，集研发、生产、销售、服务及对外投资于一体的大型综合性高科技公司。七星华创是中国电子专用设备工业协会的理事长及中国电子元件协会的副理事长单位。七星华创拥有的生产环境、加工手段和检测仪器，具有美国RAB、荷兰RVA、日本JAB、英国UKAS四个国际认可机构徽标的ISO9001质量管理体系认证、欧洲CE认证以及中华人民共和国军标质量体系认证。
北京七星华创电子股份有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 115574 |  |
飞行 | 无线电元件 | 查看详情 | |
| 2 | 4224879 |  |
图形 | 2004-08-17 | 食品包装机；电池机械；蓄电池工业专用设备；玻璃切割机；焙烧炉；自动操作机(机械手)；机器人(机械)；绕线机；电子工业设备；热交换器(机器部件) | 查看详情 |
| 3 | 4224892 |  |
HE | 2004-08-17 | 测量仪器；气体检测仪；精密测量仪器；石英晶体；印刷电路；集成电路；电阻器；半导体器件；磁性材料和器件；陶滤波器 | 查看详情 |
| 4 | 3457119 |  |
图形 | 2003-02-12 | 静电工业设备；电子工业设备；焙烧炉；铸造(锭)机；阀(机器零件)；气动焊接设备 | 查看详情 |
| 5 | 3352046 |  |
七星华创;SEVENSTAR | 2002-10-30 | 变压器;电磁线圈;电容器;声音传递器具;扩音器;电阻器;电位器;晶体管;集成电路;话筒; | 查看详情 |
| 6 | 4224880 |  |
HCE | 2004-08-17 | 测量仪器；气体检测仪；精密测量仪器；石英晶体；印刷电路；集成电路 | 查看详情 |
| 7 | 4224893 |  |
HE | 2004-08-17 | 测量仪器；气体检测仪；精密测量仪器；石英晶体；印刷电路；集成电路；电阻器；半导体器件；磁性材料和器件；陶滤波器 | 查看详情 |
| 8 | 579648 |  |
图形 | 质量流量计、质量流量控制器 | 查看详情 | |
| 9 | 758184 |  |
JZ | 静电、电子工业用设备 | 查看详情 | |
| 10 | 115569 |  |
友谊 | 电阻，电容器，晶体管，衰减片等 | 查看详情 | |
| 11 | 115568 |  |
永振 | 石英谐振器，滤波器，振荡器 | 查看详情 | |
| 12 | 4088580 |  |
RE | 2004-05-28 | 工业操作遥控电气设备；测压仪器；用于计算器操作仪器的机械装置；压力计；压力显示器 | 查看详情 |
| 13 | 4224891 |  |
HE | 2004-08-17 | 食品包装机；电池机械；蓄电池工业专用设备；玻璃切割机；焙烧炉；自动操作机(机械手)；机器人(机械)；绕线机；电子工业设备；热交换器(机器部件) | 查看详情 |
| 14 | 3457118 |  |
图形 | 2003-02-12 | 测量器械和仪器;测量装置;石英晶体;电阻器;集成电路;测量仪器;话筒;麦克风;半导体器件; | 查看详情 |
| 15 | 4224881 |  |
HCE | 2004-08-17 | 食品包装机；电池机械；蓄电池工业专用设备；玻璃切割机；焙烧炉；自动操作机(机械手)；机器人(机械)；绕线机；电子工业设备；热交换器(机器部件) | 查看详情 |
| 16 | 5235298 |  |
QUALIFLOW | 2006-03-23 | 集成电路；传感器 | 查看详情 |
| 17 | 4088579 |  |
RE | 2004-05-28 | 电池机械；电子工业设备；搅拌机；轧钢机；压平机；热风干燥拉幅机；上浆机；轧光机 | 查看详情 |
北京七星华创电子股份有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN103823444B | 半导体设备的上下位机的通信方法和通信系统 | 2016.10.12 | 本发明公开了半导体设备上下位机的通信系统及通信方法，其中所述下位机包括用于接收半导体设备的执行机构的 |
| 2 | CN301076698D | 质量流量控制器 | 2009.12.09 | |
| 3 | CN201352064Y | 300mm立式氧化炉炉体冷却系统 | 2009.11.25 | 本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉炉体冷却系统，冷却系统由炉体冷却结构和基座冷却结构两部分组成 |
| 4 | TWI534881 | 晶圆背面清洗装置 | 2016.05.21 | 晶圆背面清洗装置包括一晶圆夹持部件、一旋转轴、一晶圆清洗部件和一固定轴。晶圆夹持部件用于夹持待清洗晶 |
| 5 | CN103681423B | 传输硅片花篮的90°旋转机构 | 2016.06.22 | 本发明涉及硅片生产领域，公开了一种传输硅片花篮的90°旋转机构，由旋转单元和由旋转单元支撑的传输单元 |
| 6 | CN103774237B | 热处理装置 | 2016.09.07 | 本发明涉及半导体处理装置，公开了一热处理装置，包括加热层及夹层，夹层环绕待加热样品以形成加热腔，加热 |
| 7 | CN104102174B | 一种半导体设备软件重启后状态恢复的方法 | 2016.09.07 | 一种半导体设备软件重启后状态恢复的方法，该方法包括按照反射技术存储单元中记录的设备实际工艺模块属性层 |
| 8 | CN105810618A | 提高晶圆传输效率的系统及方法 | 2016.07.27 | 本发明提供了一种提高晶圆传输效率的系统及方法，通过设置管理模块，来统筹管理机械手传输模块、工艺腔的清 |
| 9 | CN103779258B | 一种半导体热处理设备的加热装置、维修件及维修方法 | 2016.06.15 | 本发明涉及一种半导体热处理设备的加热装置、维修件及维修方法，该装置包括炉体保温层、加热丝以及将加热丝 |
| 10 | CN106238302A | 一种频率动态变化的超声波/兆声波清洗装置 | 2016.12.21 | 本发明公开了一种频率动态变化的超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设 |
| 11 | CN201352059Y | 300mm立式氧化炉石英舟旋转装置 | 2009.11.25 | 本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉石英舟旋转装置，设有步进电机，石英舟的下方设有SiC转盘，在 |
| 12 | CN201350628Y | 300mm立式氧化炉硅片传送机械手系统 | 2009.11.25 | 本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉硅片传送机械手系统，设有升降装置、取片叉，其特征在于：所述升 |
| 13 | CN103792972B | 一种半导体设备超温与断偶报警的处理装置及方法 | 2016.08.17 | 一种半导体热处理设备超温与断偶报警的处理装置及方法，该方法包括：温度监控表根据采集每个温区热电偶采集 |
| 14 | CN104826831B | 一种低温药液清洗装置 | 2016.10.19 | 本发明提供了一种低温药液清洗装置，涉及半导体晶片工艺技术领域，本发明首先通过气体冷却装置对常温气体进 |
| 15 | CN103811391B | 晶圆位置调节装置 | 2016.08.17 | 本发明涉及一种晶圆位置调节装置，包括：一电动机，用于提供动能；一电机驱动器，用于驱动电动机；一控制单 |
| 16 | CN106076926A | 气泡清洗系统及方法 | 2016.11.09 | 本发明提供了一种气泡清洗系统及方法，通过采用用于增压的气体通入清洗液容器中，从而实现对清洗液容器内加 |
| 17 | CN2863294Y | 波浪形超薄不锈钢箔的成型装置 | 2007.01.31 | 本实用新型涉及一种波浪形超薄不锈钢箔的成型装置，包括底座压板、两个轧辊组件，所述轧辊组件分别由一个轧 |
| 18 | CN103715067B | 一种提高成膜均匀性的方法 | 2016.11.02 | 一种提高工艺膜厚均匀性的方法，其在根据主工艺要求设定的工艺参数完成主工艺步骤后，继续保持与主工艺相同 |
| 19 | CN205645765U | 立式热处理装置 | 2016.10.12 | 本实用新型公开了一种立式热处理装置，包括晶舟、保温桶以及工艺门，其中，保温桶包括底座、立柱、石英外罩 |
| 20 | CN103928317B | 提高工艺片成膜均匀性的方法 | 2016.10.26 | 本发明公开了一种提高工艺片成膜均匀性的方法，其包括向热的氧化炉炉管内通入氮气；旋转工艺片承载舟，并从 |
| 21 | CN301076697D | 流量控制器 | 2009.12.09 | |
| 22 | CN201352060Y | 300mm立式氧化炉炉体热电偶固定装置 | 2009.11.25 | 本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉炉体热电偶固定装置，其特征在于：设有固定板(5)，该固定板的 |
| 23 | CN201359446Y | 300mm立式氧化炉石英舟升降装置 | 2009.12.09 | 本实用新型公开了一种300mm立式氧化炉石英舟升降装置，其特征在于：设有驱动电机(10)、丝杠(3) |
| 24 | CN2610484Y | 网罩开闭自锁装置 | 2004.04.07 | 本实用新型公开了一种用于显像管排气工艺中的由网罩上盖、网罩底座组成的网罩开闭自锁装置。在网罩底座上装 |
| 25 | CN2636410Y | 立式炉储片台 | 2004.08.25 | 本实用新型公开了一种立式炉储片台，包括基座、直接驱动电机和转盘。直接驱动电机为外转子电机，安装在基座 |
| 26 | CN1532506A | 一种热交换器 | 2004.09.29 | 本发明提供一种用于冷却真空工业炉的热交换器，包括腔体、进风口、出风口、翅片、冷却水管、总进水口、总出 |
| 27 | CN103969036B | 一种CDS循环系统气动阀检测方法 | 2016.12.28 | 本发明公开了阀门控制技术领域中的一种CDS循环系统气动阀检测方法。本发明通过PLC实时检测第一压力传 |
| 28 | CN106252260A | 晶圆清洗装置和清洗方法 | 2016.12.21 | 本发明公开了一种晶圆清洗装置和清洗方法，清洗装置包括清洗介质喷淋部分和清洗介质控制部分，清洗介质喷淋 |
| 29 | CN103506340B | 一种喷淋装置 | 2016.12.21 | 本发明公开了一种喷淋装置，包括：喷淋头、旋转执行机构、升降执行机构和用于容纳喷淋药液的盛接槽，所述喷 |
| 30 | CN103745950B | 一种具有限位结构的盘状物夹持装置 | 2017.05.03 | 本发明公开了一种盘状物夹持装置，包括放置盘状物的旋转卡盘；带动旋转卡盘旋转的旋转轴；以及驱动旋转轴旋 |
| 31 | CN103811383B | 晶圆干燥装置及其干燥方法 | 2017.04.19 | 本发明公开了一种晶圆干燥装置，包括用于承载晶圆的旋转卡盘，所述卡盘上设有扇形区域，所述扇形区域内分布 |
| 32 | CN104460751B | 应用于化学药液供给系统的化学药液温度控制装置 | 2017.04.19 | 本发明公开了一种应用于化学药液供给系统的化学药液温度控制装置，包括：用于将化学药液加热的加热器；用于 |
| 33 | CN104362076B | 半导体设备的温度控制装置、控制系统及其控制方法 | 2017.04.19 | 本发明公开了一种温度控制装置，包括硅片承载部，多个光加热部，测温部和温度控制部。硅片承载部包括工艺腔 |
| 34 | CN106568418A | 半导体热处理设备工艺门状态检测装置及检测方法 | 2017.04.19 | 本发明公开了一种半导体热处理设备工艺门状态的检测装置，包括至少三个不在同一直线上的缓冲器和检测单元。 |
| 35 | CN106571313A | 半导体热处理设备工艺门状态检测装置及检测方法 | 2017.04.19 | 本发明公开了一种半导体热处理设备工艺门状态的检测装置，包括至少三个不在同一直线上的缓冲器和检测单元。 |
| 36 | CN104090604B | 热处理设备的温度补偿方法、温度控制方法及系统 | 2017.04.05 | 本发明公开了一种温度补偿方法，包括在硅片保持件上安装多个第二温度传感器；将硅片保持件搬入处理容器内， |
| 37 | CN104634115B | 一种用于降温炉体的进排风系统 | 2017.04.05 | 本发明涉及半导体工艺设备技术领域，尤其涉及一种用于降温炉体的进排风系统，该进排风系统包括进风风路和排 |
| 38 | CN104670877B | 一种晶硅太阳能电池片料架的暂存装置 | 2017.04.05 | 本发明公开了一种晶硅太阳能电池片料架的暂存装置，通过在具有至少二层存储单元的存储柜两端部分设带有传输 |
| 39 | CN103869744B | 功率控制器通信方式自动切换方法及系统 | 2017.04.05 | 本发明涉及一种功率控制器通信方式自动切换方法及系统，用于控制功率控制器与PLC器件的通信模块以及模拟 |
| 40 | CN106516555A | 一种可调整传送架高度的炉体装卸装置 | 2017.03.22 | 本发明公开了一种可调整传送架高度的炉体装卸装置，通过将前传送架安装在前传送架高度调整机构上，在进行炉 |
| 41 | CN106500861A | 一种热处理设备的热偶安装固定装置 | 2017.03.15 | 本发明公开了一种热处理设备的热偶安装固定装置，包括：热偶固定块，其前后两侧向内相向设有相通的一至若干 |
| 42 | CN104841660B | 气液两相雾化清洗装置及清洗方法 | 2017.03.15 | 本发明提供了一种气液两相雾化清洗装置，涉及半导体晶片工艺技术领域，包括气体管道、液体管道以及气液两相 |
| 43 | CN106493532A | 一种可快速定位的炉体装卸装置 | 2017.03.15 | 本发明公开了一种可快速定位的炉体装卸装置，通过在热处理设备和炉体装卸装置的对应位置之间设置炉体装卸定 |
| 44 | CN106505016A | 具有工艺管压力控制装置的半导体热处理设备及控制方法 | 2017.03.15 | 本发明公开了一种具有工艺管压力控制装置的半导体热处理设备及控制方法，通过将压力控制器原有的一个采样点 |
| 45 | CN106507514A | 一种具有加热装置的工艺管排气管路及控制方法 | 2017.03.15 | 本发明公开了一种具有加热装置的工艺管排气管路及控制方法，通过在工艺管排气管路安装加热装置，可根据工艺 |
| 46 | CN104561456B | 一种用于快速降温的炉体 | 2017.03.08 | 本发明涉及半导体工艺设备技术领域，尤其涉及一种用于快速降温的炉体，在所述炉体的保温层内设有分别沿所述 |
| 47 | CN103762196B | 盘状物的夹持装置及盘状物的旋转平台 | 2017.03.01 | 本发明公开了一种盘状物的夹持装置，包括夹持部、升降部、升降执行器；其中，所述夹持部包括环状体的可动基 |
| 48 | CN103723659B | 立式氧化炉炉体半自动装卸装置 | 2017.03.01 | 本发明公开了一种立式氧化炉炉体半自动装卸装置，包括主体框架，设于主体框架底部的运输定位机构，驱动传动 |
| 49 | CN103792971B | 一种用于半导体热处理设备的温度控制等效方法 | 2017.03.01 | 一种用于半导体热处理设备的温度等效控制方法，包括根据四种控温模式在稳定状态下的标准阈值，判断系统在预 |
| 50 | CN104841679B | 一种清洗介质收集装置 | 2017.02.22 | 本发明提供了一种清洗介质收集装置，涉及半导体晶圆工艺技术领域，当承载在旋转体上的晶圆进行清洗工艺时， |
新闻中心
该公司还没有发布任何新闻
行业动态
该公司还没有发表行业动态
企业资质
该公司还没有上传企业资质
Map(The red dot in the figure below is 北京七星华创电子股份有限公司 at the specific location, the map can drag, double zoom)
Tips: This site is 北京七星华创电子股份有限公司 at mass public network free website, if you are the person in charge of the unit, please click here application personalized two after landing and update your business domain data, you can delete all of your unit page ads, all operations free of charge.
|
北京七星华创电子股份有限公司 |
| Contact:王荫桐 |
| Telephone:64353493 |
| 地址:酒仙桥东路1号 |